Cuno BetaPure CMP

3M Betapure CMP-Serie WasserFilter

3M ™ Betapure ™ Filterpatronen CMP und Kapseln, die früher als CUNO Optima CMP genannt, sind mit hoher Kapazität für Tiefenfilter und Metall Schlämmen in chemisch-mechanischen Planarisierung (CMP)-Anwendungen verwendet optimiert.
Betapure CMP-Filter werden von all-Polypropylen-Komponenten zusammengesetzt und verfügt über eine Multi-Zonen-"gradedporosity" Design für die optimale Höhe der Partikelklassifizierung .
Diese Konstruktion bietet eine verbesserte Strömungseigenschaften, einschließlich niedrigem Druckabfall Scher des Schlamms zu minimieren, während die überlegene Lebensdauer.
Die Filtration von CMP-Slurries ist ein schwieriger Prozess im Vergleich zur Filtration von hochreinen Chemikalien, die in der Elektronikfertigung. Hochreinen Chemikalien Filtration wird typischerweise unter Verwendung von 0,2 Mikrometer oder engere Membranfilter, der eine scharfe Partikelentfernung Cut-off bei der Nennporengröße haben.
Die Mehrheit der CMP-Slurries enthalten einen gewünschten mittleren Partikelgröße , die von 0,03 bis 0,2 Mikron reicht.
Folglich würde der Filter, die speziell für die Partikel Klärung von hochreinen Chemikalien, die hergestellt wurde Streifen aus der gewünschten Teilchen und die Poliereigenschaften des CMP Slurry negativ zu beeinflussen.

Funktionen und Vorteile

• Legene Entfernung von harten und weichen Gel-Verunreinigungen, für geringere Defekt und verbesserte Ausbeuten
• Hohe Schmutzaufnahmekapazität reduziert Ausfallzeiten und erhöht die Gesamtanlageneffektivität
• Die i lter werden "angepasst" zu dem Schlamm für die optimale Leistungsniveau erforderlich, um drastisch zu reduzieren Defekt verursacht Partikel
• Bietet einen geringen Druckverlust reduziert das Potenzial für l uid Scher des Schlamms
• Low Kapsel extrahierbaren, frei von Klebstoffen, Bindemitteln und Tensiden
• Ausgezeichnete chemische Kompatibilität mit niedrigen und hohen pH-Slurries
• ISO certii ed Qualitätsmanagement-System
• Hergestellt und doppelt verpackt in einer sauberen Umgebung zu überlegen abwärts Sauberkeit aus der Verpackung liefern
• Bietet eine gleichbleibende Qualität der Gülle ermöglicht Wiederholbarkeit des Planarisierungsverfahren
• schnelle Installation
• Reduzierung von Ausfallzeiten
• Reduziert Umgang mit gefährlichen Chemikalien

Betriebsbedingungen

• Maximale Betriebstemperatur 60 ° C (140 ° F)
• Maximale Differenzdruck 5,2 bar (75 psi)

Typische Anwendungen

• Halbleiter
• Datenspeicherung
• Datenübertragungs
• Verbindungshalbleiter

Die Daten können sich ohne vorherige Ankündigung ändern.